三價(jià)?鉻

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

三價(jià)?鉻電鍍?藝，所沉積的鍍層同樣是純?屬鉻，故仍具?屬鉻的特性，如硬度?、耐磨性及耐蝕性俱佳等，其鍍液以三價(jià)鉻化合物提供?屬鉻的來(lái)源，并以低?屬鉻含量操作，是新型環(huán)保產(chǎn)品，不含六價(jià)鉻，廢?處理簡(jiǎn)單。電鍍時(shí)斷電不會(huì)有不良后果，沉積速度較六價(jià)鉻快。

1、鍍液組成及操作條件：

1. 操作條件 最佳值 控制范圍

2. 開(kāi)缸鹽 310克/升 300-320 克/升

3. 鉻鹽 120克/升 110-130 克/升

4. 穩(wěn)定劑 120 毫升/升 100-120毫升/升

5. ?鉻發(fā)?劑 1 號(hào) 20毫升/升 10-30 毫升/升

6. 發(fā)?劑 2號(hào) 10 毫升/升 10－30毫升/升

7. 增?劑 20毫升/升 15-35 毫升/升

8. ?位劑 40 毫升/升 30-45 毫升/升

9. WA 濕潤(rùn)劑 4毫升/升 3-5毫升/升

10. 氨 ? 35毫升/升 30-40 毫升/升

11. ?屬鉻（分析值） 22 克/公升 20-24 克/升

12. PH 值 2.8 2.6-3.0

溫 度 50℃ 45-55℃

? 重 26 26-27

陰極電流密度 10A/dm2

5-20A/dm2

陽(yáng)極材料 專(zhuān)?陽(yáng)極（進(jìn)??墨碳板）

過(guò) 濾 連續(xù)過(guò)濾

攪 拌 輕微空?攪拌

加 熱 鈦、鐵佛?

陽(yáng)極?積?陰極?積 1.5-2? 1

沉積速度 0.16-0.3um/分鐘

霍?槽打?條件： 6A、3分鐘、40℃攪拌、?位與六價(jià)鉻相似。

2、設(shè)備要求:

A）鍍 槽：PVC、ABS、聚?烯襯槽；

B）陽(yáng) 極：采?專(zhuān)?陽(yáng)極及鈦鉤；

C）溫度控制：采?鈦加熱管及鈦冷卻管裝置；

D）整流器：12-15Ｖ，提供直流電，為使鍍液穩(wěn)定建議配置安培?時(shí)積累計(jì)。

3、鍍液：本公司新開(kāi)好的?作液,將其先加熱? 75-80℃，再降到 55℃

4、原料的功能及控制：

A）對(duì)鍍液的控制需要在安培?時(shí)內(nèi)對(duì)電鍍液中各成份的數(shù)量、?重、酸堿度和溫度進(jìn)?

調(diào)控。為取得最佳電鍍性能，每個(gè)輪班?少需對(duì)?鉻的各種原料補(bǔ)充添加?次，如?作

載重?于 0.75安培/公升時(shí)補(bǔ)充次數(shù)應(yīng)該更頻繁，定期分析鍍液各成份及按照安培?時(shí)

消耗補(bǔ)充?鉻的各種原料，對(duì)?鉻?藝的穩(wěn)定性?分重要。建議使??作?志記錄?產(chǎn)

線的安培分鐘?量、?重值、PH 值、溫度及?鉻的各種原料補(bǔ)充資料，帶?消耗可根

據(jù)?重值 26-28玻美調(diào)節(jié)；

B）CS 開(kāi)缸鹽：?于提?鍍液的?重及提供鉻離?，最佳值為 26，每提??個(gè)單位

需加 25-30克/升 CS 開(kāi)缸鹽，濃度過(guò)?會(huì)引起鍍液結(jié)晶，使陽(yáng)極鈍化及打?管出現(xiàn)

堵塞，濃度太低時(shí)，會(huì)影響鍍液導(dǎo)電性能；

C）CM ?鉻鹽：補(bǔ)充鍍液所消耗的鉻離?，補(bǔ)充量為 400-500 克/千安培?時(shí)。由于

鉻鹽的溶解度較低，加?時(shí)須緩慢地逐少量加?，加? 7-8克/升的 CM 鉻鹽，可

提? 1 克/升的鉻含量；

D）ST 穩(wěn)定劑：含有 ST 穩(wěn)定劑和 GLH ?鉻發(fā)?劑，消耗量為 2000-2500

毫升/千安培?時(shí)；

E）GLH ?鉻添加劑：調(diào)整鍍層?澤均勻度。 消耗量為 20-50毫升/千安培?時(shí)；

F）GLH 發(fā)?劑：起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí)；

G）GLH 增?劑：起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時(shí)；

H）CL ?位劑：可增?電流密度范圍。消耗量為 500-1000毫升/千安培?時(shí)；

I）WA 濕潤(rùn)劑：能提??位，消耗量為 80毫升/千安培?時(shí)；

H）PH 值：可?鹽酸或濃氨?調(diào)整 PH 值，每加? 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1；每

加? 2 毫升/升濃氨?鍍液 PH 值提? 0.1，加?鹽酸或氨?之后需攪拌 2-4 ?時(shí)才可? PH

機(jī)測(cè)試鍍液的 PH 值，PH 過(guò)?三價(jià)鉻會(huì)沉淀；

I）溫 度：太低有沉淀析出，太?嚴(yán)重影響鍍層覆蓋能?。

① 鍍液的特殊性：平時(shí)?產(chǎn)?作溫度控制在 45-55℃，可以經(jīng)常性?炭芯過(guò)濾鍍液，

不影響?產(chǎn)。加料或處理缸最好加溫? 60℃以上保溫 2 ?時(shí)再降?正常溫度。?般連

續(xù)?產(chǎn) 2-3天需要選擇時(shí)間對(duì)鍍液進(jìn)?加溫，使各組份絡(luò)合的更好；

② ?產(chǎn)中請(qǐng)按安培?時(shí)添加，并填寫(xiě)記錄表。

 5、?屬雜質(zhì)控制及影響：

① 當(dāng)三價(jià)?鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等?屬雜質(zhì)污染時(shí)，鍍層的?澤及外觀會(huì)受

到某程度影響。?屬雜質(zhì)含量較?時(shí)，鍍層?澤發(fā)灰。含量嚴(yán)重過(guò)多時(shí)，鍍層?澤不均，

會(huì)出現(xiàn)?條紋或?斑等情況。鍍液的帶?及?件從掛具上掉?槽中溶掉是?屬雜質(zhì)的主

要來(lái)源；

② 定期清缸，清理掉進(jìn)缸底的?件，可有效防??屬雜質(zhì)對(duì)三價(jià)?鉻鍍層?澤的影響。?部份?屬雜質(zhì)如鋅、鐵及鎳，可?低電流電解清除，或可加除雜? 1號(hào)掩蔽。銅雜質(zhì)

?較敏感，需加?除雜? 2號(hào)，然后加強(qiáng)過(guò)濾并做電解處理，即可清除；

③ 當(dāng)鍍液受銅污染時(shí)，?、中電流區(qū)灰，隨著銅雜質(zhì)濃度的增加，鍍層發(fā)?；

④ 鍍液受鎳污染時(shí)，中電流區(qū)會(huì)出現(xiàn)??鍍層，當(dāng)鍍液同時(shí)含有鐵雜質(zhì)時(shí)低電流密度

區(qū)會(huì)呈??；

⑤ 鍍液受鉛離?污染時(shí)，低電流會(huì)出現(xiàn)?斑，鍍液的深鍍能?較差，含量過(guò)?時(shí)，?

電流密度區(qū)鍍層結(jié)合?下降。采?電解的?法可去除鉛的污染。

6、產(chǎn)品?錄：

★ ?鉻?作液 ★

1. 開(kāi)缸鹽

2. 鉻 鹽

3. 穩(wěn)定劑

4. ?鉻添加劑

5. 發(fā)?劑

6. 增?劑

7. ?位劑

8. 濕潤(rùn)劑

9. 除雜? 1 號(hào)（鎳）

10. 除雜? 2 號(hào)（銅）

11. 專(zhuān)?陽(yáng)極（?墨碳板）

7、三價(jià)?鉻電鍍與傳統(tǒng)六價(jià)鉻電鍍的?較：

A）覆蓋能?強(qiáng)，電流范圍?闊，?電位燒焦現(xiàn)象減少，可掛較多數(shù)量的?件，不需沖擊

電鍍，可像酸銅、鎳般循環(huán)電鍍；

B）分散能?極佳，電鍍速度極快，厚度分布更均勻；

C）不像六價(jià)鉻電鍍?nèi)菀桩a(chǎn)??漬；

D）此?藝采?專(zhuān)??墨陽(yáng)極，陽(yáng)極使?壽命?，使鍍液免受鉛污染；

E）電鍍時(shí)使?的電流密度低，節(jié)省電?能源的消耗；

F）鍍層不含六價(jià)鉻痕漬，符合 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)；

G）環(huán)保，不會(huì)對(duì)空?產(chǎn)?污染，?廢?處理更簡(jiǎn)易；

H）安全操作，對(duì)從業(yè)?員的健康有保障。

8、電鍍故障及處理：

聲明：此說(shuō)明書(shū)所有關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議及參數(shù)，是以本公司信賴(lài)的實(shí)驗(yàn)與資料為標(biāo)準(zhǔn)。因業(yè)界同仁設(shè)

備及實(shí)際操作的各異性，故本公司不保證及不負(fù)責(zé)任可能相關(guān)之不良后果，此說(shuō)明書(shū)內(nèi)所有的資料

也不?作侵犯版權(quán)的證據(jù)。